Tantaali Target

Tantaali Target

Tantaalikohteilla on ominaisuuksia, kuten korkea puhtaus, tiheä rakenne ja hyvä sputterointikestävyys, ja niillä on vakaa suorituskyky suurissa tyhjiö- ja plasmaympäristöissä. Tantaalikohteista muodostetuilla ohuilla kalvoilla on vahva adheesio, hyvä tasaisuus ja korkea kemiallinen stabiilisuus, minkä vuoksi niitä käytetään laajalti ohutkalvopinnoituskentissä, kuten puolijohteissa, integroiduissa piireissä, näyttöpaneeleissa ja optisissa pinnoitteissa.

Tuotteen esittely

Tantaalitavoitteemme

 

 

Ulottuvuus

Halkaisija 50-400mm X Paksuus 3-28mm

Luokka

R05200 R05400 R05252 (Ta-2,5W) R05255 (Ta-10W)

Puhtaus

Suurempi tai yhtä suuri kuin 99,95 % (enintään 99,99 %)

Uudelleenkiteytetään

Vähintään 95 %

Raekoko

Vähintään 40um

Pinnan karheus

Maksimi Ra0,4

Tasaisuus

0,1 mm tai enintään 0,10 %

Toleranssi

Halkaisija +/-0,254 mm

 

Valmistusprosessi – elektronisuihkutyhjiösulatus

 

 

Käytämme elektronisuihkutyhjiösulatusta (EB) tantaaliharkkojen ydinsulatusprosessina.

Prosessin edut:

● Ultra{0}}korkea tyhjiö minimoi kaasukontaminaation

● Erinomainen hapen, typen, vedyn ja metallisten epäpuhtauksien poisto

● Erittäin tasainen mikrorakenne ja kemiallinen koostumus

● Parempi korroosionkestävyys ja käyttöikä

● Erinomainen yhtenäisyys erien välillä

Tämä prosessi on erityisen kriittinen sovelluksissa, jotka vaativat suurta puhtautta,{0}}pitkäaikaista vakautta ja äärimmäistä korroosionkestävyyttä.

 

 

 

Laadunvalvonta

 

 

Mill Test Certificate (MTC) toimitetaan jokaiselle lähetykselle pyynnöstä.

  • Kemiallisen koostumuksen analyysi
  • Mitta- ja pintatarkastus
  • Mekaanisten ominaisuuksien testaus
  • Erän jäljitettävyys ja dokumentointi

 

 

 

ba202009161609045005127

product-800-600
product-800-600

 

Suositut Tagit: tantaalikohde, Kiina tantaalikohteen valmistajat, toimittajat, tehdas

Lähetä kysely

whatsapp

Puhelin

Sähköposti

Tutkimus

laukku